无锡安利达气体有限公司

0510-85305498

2359280026@qq.com

公司产品
无锡安利达气体有限公司
联系人:王经理
手机:13771539749
电话:0510-85305498
全国服务热线:400-828-0338
地址:无锡市新吴区鸿山街道
新闻详情
首页 > 新闻 > 内容

工业气体公司带你了解几种不常见气体

编辑:无锡安利达气体有限公司时间:2018-06-13

      工业气体公司生产的工业气体在国家标准《常用危险化学品的分类及标志》(GB13690-1992)中,通常被划为第2类压缩气体和液化气体。 这类化学品系指压缩、液化或加压溶解的气体。气体经加压或降低温度,可以使气体分子间的距离大大缩小而被压入钢瓶中,这种气体称为压缩气体(亦称为永久气体, 如氧气、氮气、氩气、氢气等)。对压缩气体继续加压, 适当降温,压缩气体就会变成液体的,称为液化气体(如液氯、 液氨、液体二氧化碳等)。此外,还有一种性质极为不稳定的气体,加压后需溶于溶剂中储存在钢瓶内,这种气体称为溶解气体(如溶解乙炔等)。
       具体来说工业气体可分为14种,下面先介绍两种:
       1. 外延气体(Cpitaxial gases) :在仔细选择的衬底上采用化学气相淀积(CVD) 的方法生长一层或多层材料所用气体称为外延气体。硅外延气体有4 种, 即硅烷、二氯二氢硅、三氯氢硅和四氯化硅, 主要用于外延硅淀积, 多晶硅淀积, 淀积氧化硅膜, 淀积氮化硅膜, 太阳电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。此外延层的电阻率往往与衬底不同。
      2. 蚀刻气体(Etching gases) :蚀刻就是把基片上无光刻胶掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金属膜等蚀刻掉, 而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来, 这样便在基片表面得到所需要的成像图形。蚀刻的基本要求是, 图形边缘整齐, 线条清晰, 图形变换差小, 且对光刻胶膜及其掩蔽保护的表面无损伤和钻蚀。蚀刻方式有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法蚀刻所用气体称蚀刻气体, 通常多为氟化物气体, 例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。干法蚀刻由于蚀刻方向性强、工艺控制精确、方便、无脱胶现象、无基片损伤和沾污, 所以其应用范围日益广泛。